Бази даних


Наукова періодика України - результати пошуку


Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Реферативна база даних (4)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій



Пошуковий запит: (<.>A=Zakhvalinskii V$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 4
Представлено документи з 1 до 4
1.

Zakhvalinskii V. S. 
RF Magnetron Sputtering of Silicon Carbide and Silicon Nitride Films for Solar Cells [Електронний ресурс] / V. S. Zakhvalinskii, E. A. Piljuk, I. Yu. Goncharov, V. G. Rodriges, A. P. Kuzmenko, S. V. Taran, P. A. Abakumov // Журнал нано- та електронної фізики. - 2014. - Т. 6, № 3. - С. 03062-1-03062-3. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2014_6_3_64
RF-magnetron nonreactive sputtering method from solid-phase target in argon atmosphere was used for obtaining thin silicon carbide and silicon nitride films, that are used for constructing solar cells based on substrates of single crystal silicon of p-type.
Попередній перегляд:   Завантажити - 526.365 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Zakhvalinskii V. S. 
Diode Based on Amorphous SiC [Електронний ресурс] / V. S. Zakhvalinskii, L. V. Borisenko, A. J. Aleynikov, E. A. Piljuk, I. Goncharov, S. V. Taran // Journal of Nano- and Electronic Physics. - 2013. - Vol. 5, № 4(1). - С. 04029-1-04029-3. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnep_2013_5_4(1)__31
Diode structure on the basis of amorphous silicon carbide and p-type polycrystalline silicon (Eurosolar) were obtained with magnetron RF-nonreactive sputtering method from solid-phase target in argon atmosphere.
Попередній перегляд:   Завантажити - 202.138 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
3.

Zakhvalinskii V. S. 
Temperature Influence on the Properties of Thin Si3N4 Films [Електронний ресурс] / V. S. Zakhvalinskii, P. A. Abakumov, A. P. Kuzmenko, E. A. Piljuk, V. G. Rodrigues, I. J. Goncharov, S. V. Taran // Журнал нано- та електронної фізики. - 2015. - Т. 7, № 4. - С. 04052-1-04052-2. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2015_7_4_54
Applying Raman spectroscopy, small-angle x-ray scattering, and atomic force microscopy it were studied phase composition and surface morphology of nanoscale films Si3N4 (obtained by RF magnetron sputtering).
Попередній перегляд:   Завантажити - 248.747 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
4.

Zakhvalinskii V. S. 
Hopping Conductivity Mechanism in Cd3As2 Films Prepared by Magnetron Sputtering [Електронний ресурс] / V. S. Zakhvalinskii, E. A. Pilyuk, T. B. Nikulicheva, S. V. Ivanchikhin, M. N. Yaprintsev, I. Yu. Goncharov, D. A. Kolesnikov, A. A. Morocho, О. V. Glukhov // Journal of nano- and electronic physics. - 2020. - Vol. 12, no. 3. - С. 03029-1-03029-4. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/jnef_2020_12_3_31
Плівки арсеніду кадмію на підкладках окисненого кремнію одержано ВЧ-магнетронним розпиленням. Досліджено структуру та морфологію поверхні за допомогою методів АСМ та раманівської спектроскопії. На спектрі КРС присутні характерні для плівок Cd3As2 піки за 194, 249 і 303 см<^>-1. Рухливість носіїв в зразках склала <$E0,15~-~1,7~cdot~10 sup 3> см<^>2В<^>-1с<^>-1 за концентрації <$E0,7~-~4,4~cdot~10 sup 19> см<^>-3. Встановлено, що для зразка № 1 в інтервалі температур T = 10 - 15 K реалізується механізм електропровідності за законом Мотта. Це можна пояснити тим, що мікроскопічне розупорядкування стає важливим для локалізації електронів в цьому температурному регіоні. Цьому сприяє зниження температури або зростання ступеня безладу. В цьому випадку стрибок стає можливим тільки всередині енергетичної смуги Мотта поблизу рівня Фермі. Перенесення заряду в зразку № 2 за T = 220 - 300 K здійснюється шляхом стрибкової провідності електронів зі змінною довжиною стрибка по локалізованим станам, що лежать у вузькій смузі енергій поблизу рівня Фермі. Ці стани можуть створюватися міжзеренними межами і дислокаціями. Співвідношення між значеннями кулонівської щілини <$EDELTA> і шириною зони локалізованих станів W узгоджуються з відповідним механізмом провідності.
Попередній перегляд:   Завантажити - 594.203 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського